Entwickler von Leistungsumwandlungssystemen stehen bei der Auswahl von Gate-Treiberlösungen für ihre Leistungsstufen vor einem Dilemma: Lösungen mit fester Gate-Treiberspannung sind zwar einfach zu implementieren, bieten aber nicht die nötige Flexibilität, um unterschiedliche Anforderungen an die Transistortechnologie zu erfüllen. So variieren beispielsweise die optimalen Gate-Spannungen für
IGBTs, Si- und
SiC MOSFETs, was bei neueren Transistorgenerationen den Einsatz von Gate-Drive-Schaltungen oder ein komplettes Redesign der Leistungsstufe erfordert.
IGBTs benötigen in der Regel eine positive Gate-Spannung zwischen +15V und +20V, um vollständig einzuschalten. Zur schnellen Abschaltung und zur Vermeidung von Fehlauslösungen benötigen IGBTs eine negative Gate-Spannung zwischen -5V und -15V. Si-MOSFETs benötigen dagegen eine geringere Gate-Spannung, im Allgemeinen zwischen +10V und +15V zum Einschalten und zwischen 0V und -5V zum Ausschalten. SiC-MOSFETs, die aufgrund ihrer hohen Schaltgeschwindigkeiten und ihres niedrigen Durchlasswiderstands verwendet werden, haben Gate-Spannungen, die denen von IGBTs nahe kommen – einige Bauelemente benötigen für eine optimale Leistung bis zu +25V. Die Verwendung von Lösungen mit fester Gate-Treiberspannung für mehrere Transistoren kann zu suboptimaler Leistung, erhöhten Verlusten und Ausfällen aufgrund unzureichender oder zu hoher Gate-Spannungen führen. Entwickler können daher auf separate Gate-Treiberschaltungen zurückgreifen, die auf jeden Transistortyp zugeschnitten sind, was nicht nur die Gesamtkomplexität des Systems, sondern auch die Kosten und den Platz auf der Leiterplatte erhöht.
Die Erhöhung der Schaltfrequenz und der Spannung zur Verbesserung des Wirkungsgrads und der Leistungsdichte bringt einige Herausforderungen mit sich. Höhere Frequenzen erfordern schnellere Schaltvorgänge, was zu erhöhten EMI- und Rauschproblemen führen kann. Schnellere Schaltflanken (hohe dv/dt und di/dt) können Rauschen über die parasitären Kapazitäten der Schaltung einkoppeln, einschließlich des Transistorgehäuses, der Leiterbahnen und der Isolationsbarrieren. Dieses Rauschen stört den ordnungsgemäßen Betrieb der Gate-Treiberschaltung, was zu unbeabsichtigtem Schalten und sogar zu erhöhtem Leistungsverlust und Geräteausfall führt.
Die Verwendung von Hochleistungskomponenten zur Erzielung schnellerer Schaltvorgänge hat ihren Preis, da die Entwickler je nach Anwendung und Marktanforderungen ein ausgewogenes Verhältnis zwischen Kosten und Leistung finden müssen. Bei kostensensiblen Verbraucheranwendungen können sich die Entwickler zum Beispiel für kostengünstigere Si-MOSFETs oder IGBTs entscheiden. Diese Entscheidung geht zu Lasten von Effizienz und Leistung zugunsten einer billigeren Lösung. Andererseits kann bei Hochleistungsanwendungen in der
Industrie oder im
Automobilbereich der Einsatz von teuren SiC-MOSFETs gerechtfertigt sein, um Benchmarks für Effizienz, Zuverlässigkeit und Leistungsdichte zu erreichen.
Die Notwendigkeit, die Gesamtgröße des Systems zu reduzieren, ist eine weitere große Herausforderung bei der Entwicklung von Leistungsstufen. Da die Leistungsdichte immer wichtiger wird, müssen die Entwickler Wege finden, um eine stärkere Miniaturisierung zu erreichen und die Gate-Drive-Schaltung nahtlos zu integrieren, ohne Kompromisse bei der Leistung oder Zuverlässigkeit einzugehen. Allerdings sind Standard-Gate-Drive-Lösungen auf diskrete Komponenten und separate Stromversorgungen angewiesen, die wertvollen Platz auf der Platine beanspruchen und das Design verkomplizieren können. Diskrete Gate-Drive-Schaltungen bestehen aus: einem Gate-Drive-IC, einer isolierten Stromversorgung, passiven Bauteilen wie Widerständen, Kondensatoren, Dioden und mehr. Die sorgfältige Auswahl und Platzierung der einzelnen Komponenten auf der Leiterplatte kann nur unter Berücksichtigung von Faktoren wie Verlustleistung, Wärmemanagement und Signalintegrität erfolgen. Mit zunehmender Anzahl der Transistoren in einer Leistungsstufe steigt auch die Komplexität und Größe der Gate-Treiberschaltung.