1. Einführung: Überlegungen zum GaN-Gate-Antrieb
Gallium Nitrid (GaN)-Halbleiter sind Komponenten von High Electron Mobility Transistoren (HEMT), einer Klasse von Transistoren mit nahezu perfekten Schalteigenschaften. HEMT bedeutet, dass sich die Elektronen innerhalb der internen Kristallstruktur als zweidimensionales Elektronengas mit sehr hoher Mobilität bewegen, wodurch ein Gerät mit sehr hoher Leitfähigkeit und niedrigem RDS ON entsteht. Die Verwendung der GaN-Chemie erhöht die Durchbruchsspannung, was dazu führt, dass innerhalb des Transistors sehr dünne Schichten dicht beieinander positioniert werden können. Dadurch wird sowohl die Schaltgeschwindigkeit beschleunigt als auch die Gate-Kapazität reduziert.